纳米级CMOS VLSI电路
ISBN：9787111782704
价格：79
副题名：可制造性设计
分辑号：
分辑名：
主要著作者：(美)桑迪普·昆杜(Sandip Kundu)，(美)阿斯温·斯雷德哈(Aswin Sreedhan)著
发行地：北京
出版社：机械工业出版社
出版日期：2025
页码：216页
开本：24cm
丛书项：
一般性附注：集成电路大师级系列
读者对象：
主题词：纳米材料
中图法分类：TN432.02
装帧：
版次：
图表：图
语种：chi
本书首先介绍了CMOS VLSI设计的趋势，并介绍了可制造性设计和可靠性设计的基本概念；其次介绍了半导体制造的各种工艺步骤，并探讨了工艺与器件偏差以及分辨率增强技术；然后研究了半导体制造过程中的各种制造缺陷及其对电路的影响，并讨论了可靠性问题的物理机制及其影响；最后探讨了在电路实现过程中不同阶段采用DFM和DFR方法所带来的变化。
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