单晶金刚石的化学机械抛光方法及机理研究-T 工业技术-安徽瀚文图书有限责任公司

单晶金刚石的化学机械抛光方法及机理研究

ISBN：9787561297803

价格：68

副题名：

分辑号：

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主要著作者：史卓颖著

发行地：西安

出版社：西北工业大学出版社

出版日期：2025.04

页码：300页

开本：26cm

丛书项：

一般性附注：

读者对象：材料科学研究者、抛光技术工作者

主题词：金刚石

中图法分类：TQ164.8

装帧：

版次：

图表：

语种：chi

本书介绍了国内外金刚石抛光技术的研究现状，并结合笔者开展的研究工作提出了金刚石常温化学机械抛光(CMP)的新工艺方法，探索了抛光过程中原子尺度的材料去除机理。书中主要内容包括金刚石的性质和应用、金刚石抛光技术研究概况、金刚石常温CMP抛光液的研制、抛光工艺参数选择、金刚石CMP中的机械作用和氧化作用、不同晶面金刚石的抛光性能等。

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